יעד הטנטלום שלנו
|
מֵמַד |
קוטר 50-400 מ"מ X עובי 3-28 מ"מ |
|
צִיוּן |
R05200 R05400 R05252 (Ta-2.5W) R05255 (Ta-10W) |
|
טוֹהַר |
גדול או שווה ל-99.95% (מקסימום 99.99%) |
|
להתגבש מחדש |
מינימום 95% |
|
גודל גרגר |
מינימום 40 אום |
|
חספוס פני השטח |
מקסימום Ra0.4 |
|
שְׁטִיחוּת |
0.1 מ"מ או מקסימום 0.10% |
|
סוֹבלָנוּת |
קוטר +/-0.254 מ"מ |
תהליך ייצור - התכת ואקום של קרן אלקטרונים
אנו מאמצים התכת ואקום של קרן אלקטרונים (EB) כתהליך התכת הליבה עבור מטילי טנטלום.
יתרונות התהליך:
● סביבת ואקום גבוהה במיוחד- ממזערת את זיהום הגזים
● הסרה מעולה של חמצן, חנקן, מימן וזיהומים מתכתיים
● מבנה מיקרו והרכב כימי אחידים במיוחד
● עמידות בפני קורוזיה וחיי שירות משופרים
● עקביות מצוינת בין אצוות
תהליך זה קריטי במיוחד עבור יישומים הדורשים טוהר גבוה, יציבות-לטווח ארוך ועמידות בפני קורוזיה קיצונית.
בקרת איכות
אישורי בדיקה של מיל (MTC) מסופקות עבור כל משלוח לפי בקשה.
- ניתוח הרכב כימי
- בדיקת מימד ומשטח
- בדיקת מאפיינים מכניים
- מעקב ותיעוד אצווה



תגיות פופולריות: יעד טנטלום, יצרני יעד טנטלום בסין, ספקים, מפעל












